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Hexacarbonyltungsten 六羰基鎢

規(guī)格: 99%(99.9%-W)
CAS: 14040-11-0
產(chǎn)品編號: H24308
MDL: MFCD00011462
品牌: INFI

ALD簡介

   原子層沉積技術(shù)(Atomic Layer Deposition,簡稱ALD)是一種在納米尺度上進(jìn)行薄膜沉積的先進(jìn)技術(shù)。通過將物質(zhì)以單原子形式一層一層的鍍在基底表面,擁有優(yōu)異的三維共形性、大面積成膜的均勻性和精確控制膜厚等特點。

ALD應(yīng)用

ALD在能源領(lǐng)域應(yīng)用

2009年,Miyaska課題組將鈣鈦礦材料MAPbI3用作燃料敏化太陽能電池的光伏活性層,正式開啟了鈣鈦礦太陽能電池的新紀(jì)元。ALD憑借其均勻成膜性、精準(zhǔn)控制厚度和保形性等多種優(yōu)勢,在光伏領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。除此之外,ALD技術(shù)還可用于鋰電池薄膜涂層,提高電池性能

ALD在泛半導(dǎo)體應(yīng)用

隨著泛半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,對微型化和集成化要求越來越高,尺寸縮小至亞微米和納米量級,ALD作為一種高精度薄膜沉積技術(shù),可用于晶體管柵極電介質(zhì)層(高K材料)、金屬柵電極、有機(jī)發(fā)光顯示器涂層、銅互聯(lián)擴(kuò)散阻擋層、DRAM電介質(zhì)層、微流體和MEMS涂層、傳感器等眾多領(lǐng)域。

ALD在光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用

由于 ALD 具有的三維共形沉積和大面積均勻性特點,已成功應(yīng)用于高質(zhì)量光學(xué)薄膜、增透膜、折射率可調(diào)的光學(xué)薄膜、波狀多層膜,改善了光子晶體的光學(xué)性質(zhì)和可控性,增加了光子晶體在未來光學(xué)器件中的應(yīng)用潛力。

 公司致力于ALD高純半導(dǎo)體薄膜前驅(qū)體材料的自主研發(fā)和生產(chǎn),成立以來,已陸續(xù)向多家半導(dǎo)體客戶提供了百余種前驅(qū)體新材料,包括高純硅基前驅(qū)體系列、High-k前驅(qū)體系列產(chǎn)品,部分新品已被客戶用于5nm以下制程薄膜設(shè)備。我們致力為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品并建立互信、長久的合作關(guān)系,產(chǎn)品具有自主知識產(chǎn)權(quán)且原材料國產(chǎn)化,打破國外壟斷的同時保證供應(yīng)鏈的安全。研峰科技愿與國內(nèi)芯片、高端顯示、光伏新能源等高端客戶一起攜手,解決高端半導(dǎo)體材料的把脖子難題,早日實現(xiàn)進(jìn)口替代。




化學(xué)之旅-金屬與羰基的完美交響

1890年Ludwig Mond首次合成羰基鎳[1],此后大家發(fā)現(xiàn)周期表中鈷和鐵等過渡金屬元素能與一氧化碳(CO)反應(yīng)生成金屬羰基化合物,經(jīng)熱分解可獲得不含有害雜質(zhì)、粒度小、活性高等的金屬羰基粉末,由于其兼具無機(jī)和有機(jī)化合物特性,在新材料、有機(jī)合成、催化劑、生物醫(yī)藥和環(huán)境化工等領(lǐng)域有著重要應(yīng)用。

金屬羰基化合物是以過渡金屬為中心原子、CO為配體,其穩(wěn)定存在是因為過渡金屬通常具有半占滿的d軌道,CO中碳原子可以提供孤對電子給中心原子d軌道形成金屬-碳σ鍵,同時過渡金屬的Π電子會反饋到CO的空軌道形成反饋Π鍵(圖一),從而金屬原子和羰基形成穩(wěn)定的σ-Π鍵。


圖一 金屬原子和羰基形成穩(wěn)定的σ-Π

金屬羰基化合物在眾多領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用:

? 催化領(lǐng)域,金屬羰基化合物具有較高的催化活性和選擇性,可以催化烯丙胺類化合物異構(gòu)化為高反應(yīng)活性的亞胺,進(jìn)行傅克反應(yīng)或曼尼希反應(yīng);還可用于催化甲基上的低活性C(sp3)-H鍵進(jìn)行羰基化反應(yīng)。

? 材料領(lǐng)域,可用于制備液晶顯示器、太陽能電池和發(fā)光二極管等光電材料。

? 醫(yī)藥領(lǐng)域,其衍生物可用作抗腫瘤藥物、抗病毒藥物和抗菌藥物等,為醫(yī)藥研究提供了新的思路和方法。

下面我們?yōu)榇蠹液唵谓榻B幾種金屬羰基化合物:

羰基鎢,由過渡金屬鎢與一氧化碳配體形成的配位化合物,通常為六配位體,其分子具有高對稱性在空氣中可以穩(wěn)定存在白色固體(圖二)。


圖二 六羰基鎢結(jié)構(gòu)及外觀

薄膜沉積領(lǐng)域:以六羰基鎢和氨為前驅(qū)體,原子層沉積在180-195℃的低溫狹窄溫度范圍內(nèi)成功地生長出氮化鎢膜[2],電化學(xué)研究表明,形成的WNx薄膜可以作為鋰離子電池的穩(wěn)定陽極材料,其庫侖效率高達(dá)99%以上,甚至可以達(dá)到200次循環(huán)。

催化領(lǐng)域:六羰基鎢可與烯烴、炔烴、重氮甲烷、腈等發(fā)生相應(yīng)的插入反應(yīng)而生成各種有機(jī)鎢化合物。除此之外,在光照條件下六羰基鎢可用于催化環(huán)烯的開環(huán)聚合。

石化領(lǐng)域:六羰基鎢與苯胺類產(chǎn)品合成油溶性加氫催化劑,后者用于加工劣質(zhì)重油、渣油時可以達(dá)到較高的加氫轉(zhuǎn)化率,并且最大限度地降低生焦率。

①八羰基二鈷,橙棕色結(jié)晶體(圖三),熔點51℃,15℃時的蒸汽壓為9.33 Pa,空氣中52℃以上發(fā)生分解,不溶于水,溶于有機(jī)溶劑。



圖三 八羰基二鈷結(jié)構(gòu)及外觀

薄膜沉積領(lǐng)域:八羰基二鈷作為前驅(qū)體沉積得到鈷膜,可用于高密度磁光記錄介質(zhì)[3]。同時也是合成重要半導(dǎo)體前驅(qū)體二羰基環(huán)戊二烯基鈷[CpCo(CO)2]的原材料。

催化領(lǐng)域:在長鏈烯烴氫甲酰化反應(yīng)過程中,羰基鈷催化劑占有主導(dǎo)地位(圖四),既可以是純羰基配合物的形式,也可以是各種形式配體改性的形式。



圖四 八羰基二鈷催化氫甲酰化機(jī)理

石化領(lǐng)域:八羰基二鈷可以合成加氫脫氮復(fù)合催化劑,用于渣油深度脫氮處理,可以作為重油加氫裂化的補(bǔ)充原料,提高渣油的利用價值。除此之外,八羰基二鈷還可以催化醋酸乙烯酯氫甲酰化,然后再通過加氫、水解反應(yīng)得到1,2-丙二醇和1,3-丙二醇,后者是重要的聚脂纖維單體,具有很高的市場價值。

六羰基鉻,白色結(jié)晶體(圖五),48℃時的蒸汽壓為133.32Pa,熔點130℃,密度1.77g/cm3,在空氣中穩(wěn)定,但易揮發(fā)。不溶于水和乙醇,溶于大多數(shù)其它有機(jī)溶劑。1926年,科研人員將CrCl3、溴化苯鎂和CO在醚中反應(yīng),水解得到 Cr(CO)6

圖五 羰基鉻結(jié)構(gòu)及外觀

薄膜沉積領(lǐng)域:以六羰基鉻為前驅(qū)體,通過激光化學(xué)氣相沉積方法(LCVD)制備鉻薄膜,用于光掩膜版透明缺陷維修等。光掩膜版是集成電路布圖設(shè)計的一種載體,在光刻工藝中起著曝光掩蔽作用,是制造集成電路必不可少的部件。

催化領(lǐng)域:主要應(yīng)用于共軛雙鍵選擇性氫化、異構(gòu)化和芳烴烷基化等催化反應(yīng),還可以催化氧化合成異長葉烯酮用于化妝品和香皂等產(chǎn)品中作為香精使用。

參考文獻(xiàn):

1. J. Chem. Soc. Trans, 1890, 57, 749.

2. Physical Chemistry Chemical Physics, 2015, 17, 17445.

3. Technol.A. 2012, 20, 1295.

Chemical NameTungsten hexacarbonyl
CAS Number14040-11-0
PubChem Substance ID24854483
EC Number237-880-2
MDL NumberMFCD00011462
Synonym Tungsten carbonyl (W(CO)6), (OC-6-11)- Tungsten carbonyl (W(CO)6) Tungstencarbonyl,99%(99.9+%-W)sublimed Tungstenhexacarbonyl Tungstencarbonyl(W(CO)6),(OC-6-11)- Tungsten hexacarbonyl, sublimed, 99.9+% metals basis Tungstene hexacarbonyl NSC 173699 tungstenehexacarbonyl (OC-6-11)-Tungstencarbonyl Wolframhexacarbonyl TUNGSTEN CARBONYL Tungsten carbonyl (oc-6-11)-tungstencarbonyl(w(co)6 Tungstencarbonyl(W(CO)6) W(CO)6 Hexacarbonyl wolfram Tungsten carbonyl 99% Hexacarbonylwolfram TUNGSTEN CARBONYL 99% (<0.3%-MO) Tungstencarbonyl,99%(<0.1%-Mo) Tungsten hexacarbonyl Hexacarbonyltungsten (0) Tungsten carbonyl Tungstenhexacarbonyl 六羰基鎢 Hexacarbonyltungsten 六羰基鎢 HEXACARBONYLTUNGSTEN Hexacarbonyltungsten (0)
Chemical Name Translation六羰基鎢
InChIKeyFQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N
LabNetwork Molecule IDLN02003227
GHS Symbol
WGK Germany3
Hazard Codes T
Hazard statements
  • H301+H311+H331
    Personal Protective Equipment Eyeshields, Gloves, type N95 (US), type P1 (EN143) respirator filter
    Precautionary statements
    • P301+P310
    • P261 Avoid breathing dust/fume/gas/mist/vapours/spray. 避免吸入粉塵/煙/氣體/煙霧/蒸汽/噴霧。
    • P280 Wear protective gloves/protective clothing/eye protection/face protection. 戴防護(hù)手套/防護(hù)服/眼睛的保護(hù)物/面部保護(hù)物。
    • P311 Call a POISON CENTER or doctor/physician. 呼叫解毒中心或醫(yī)生/醫(yī)師。
      Signal word Danger
      RTECSYO7705000
      Safety Statements
      • S45 In case of accident or if you feel unwell seek medical advice immediately (show the label where possible) 發(fā)生事故時或感覺不適時,立即求醫(yī)(可能時出示標(biāo)簽);
      • S36 Wear suitable protective clothing 穿戴適當(dāng)?shù)姆雷o(hù)服;
      • S36/37 Wear suitable protective clothing and gloves 穿戴適當(dāng)?shù)姆雷o(hù)服和手套;
      • S36/37/39 Wear suitable protective clothing, gloves and eye/face protection 穿戴適當(dāng)?shù)姆雷o(hù)服、手套和眼睛/面保護(hù);
      • S28 After contact with skin, wash immediately with plenty of ... (to be specified by the manufacturer) 皮膚接觸后,立即用大量…(由生產(chǎn)廠家指定)沖洗;
      • S38 In case of insufficient ventilation wear suitable respiratory equipment 通風(fēng)不良時,佩帶適當(dāng)?shù)暮粑鳎?/li>
        UN Number UN3466
        Risk Statements
        • R23/24/25 Toxic by inhalation, in contact with skin and if swallowed 吸入,皮膚接觸及吞食都有毒
        • R23/25 Toxic by inhalation and if swallowed 吸入及吞食都有毒
          Packing GroupIII
          Hazard Class6.1
          Restrict -
        • 用于制備含鎢的復(fù)合物和材料,也用于光化學(xué)。用于合成 Fischer 卡賓配合物的前體,可將 Pd(II) 還原為納米微粒型 Pd(0),Pd(0) 在 Hiyama 交叉偶聯(lián)反應(yīng)中具有催化活性.
        • {SA}
        • 1. Maruyama, T., Arai, S. J. Electrochem. Soc. 4 , 1021, (1994)
        • {SA}
        • 2. Mulders, J. J. L.; Belova, L. M.; Riazanova, A. Nanotechnology 5th ed., 22 , 055302/1, (2011)
        • {SA}
        • Fieser 6 ,658 / Fieser 8 ,525 / Fieser 14 ,345
        • {SA}
        • Aldrich MSDS 1 , 1821:B / Corp MSDS 1 (2), 3559:C / FT-IR 2 (3), 4590:B / FT-IR 1 (2), 1299:A / RegBook 1 (2), 3141:C / Sax 6 , 1505
        • {uni_hamburg} Short: II/25D
        • Title: Structure Data of Free Polyatomic Molecules: Molecules Containing Five or More Carbon Atoms
        • Author: Graner, G.; Hirota, E.; Iijima, T.; Kuchitsu, K.; Ramsay, D.A.; Vogt, J.; Vogt, N.
        • Editor: Kuchitsu, K.
        • Source: Landolt-B?rnstein, New Series
        • Volume: II/25D
        • Year: 2003
        • Keyword: Free Polyatomic Molecules; Carbon Atoms; Molecules
        • ISBN: 3-540-42860-7
        • ISBN: 978-3-540-42860-2
        • Internet Resource: DOI:10.1007/b75952
        • RefComment: VIII, 569 pages. Hardcover
        • RefComment: Written for scientists and researchers in the fields of chemistry and physics
        • Abstract: This fourth subvolume presents data on the geometric parameters (internuclear distances, bond angles, dihedral angles of internal rotation etc) of free polyatomic molecules including free radicals and molecular ions. The survey on structure data consists of four subvolumes, each containing the geometric parameters determined in the gas phase either by an analysis of the rotational constants (and sometimes the vibrational constants) obtained from microwave, infrared, Raman, electronic and photoelectron spectroscopy or by an analysis of electron diffraction intensities. Most of the structures listed in the tables are for molecules in the electronic ground state, but structures for electronically excited states have also been included as far as they are available. In this fourth subvolume, the structure of molecules containing five to sixty carbon atoms is listed.
        • {uni_hamburg} Short: III/35D5
        • Title: Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Data: Chemi
        • Previous Next
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          化學(xué)屬性

          Mol. FormulaW(CO)6
          Mol. Weight352
          Density2.63
          Melting Point147 - 153 °C(lit.)
          TSCAYes
          Vapor Density12.1 (vs air)
          Vapor Pressure1.2 mmHg ( 67 °C)
          Boiling Point175 °C
          Solubility不溶
          Flash Point200°C
          Appearance white xtl. white to off-white pwdr.
          Danger-Level-
          pH-:-
          Redox-

          *以上化合物性質(zhì)及應(yīng)用等信息僅供參考